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纳米氧化硅抛光液
纳米氧化硅抛光液 纳米氧化硅抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 纳米氧化硅抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
佛山市南海科凝化工有限公司
金属抛光液
金属抛光液 金属抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 金属抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
佛山市南海科凝化工有限公司
铝合金锌件抛光液
铝合金锌件抛光液 铝合金锌件抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 铝合金锌件抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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镁铝合金抛光液
镁铝合金抛光液 镁铝合金抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 镁铝合金抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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铝材抛光液
铝材抛光液 铝材抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 铝材抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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铝合金抛光液
铝合金抛光液 铝合金抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 铝合金抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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钻石研磨液
钻石研磨液 钻石研磨液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 钻石研磨液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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纳米二氧化硅抛光液
纳米二氧化硅抛光液 纳米二氧化硅抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 纳米二氧化硅抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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光学玻璃抛光液
光学玻璃抛光液 光学玻璃抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 光学玻璃抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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二氧化硅抛光液
二氧化硅抛光液 二氧化硅抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 二氧化硅抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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玻璃抛光液
玻璃抛光液 玻璃抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 玻璃抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液 多晶金刚石抛光液又名纳米胶态氧化硅抛光液这是一种应用于化学机械研磨(CMP)工艺的胶粒二氧化硅研磨液。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。 多晶金刚石抛光液产品介绍: 型号 平均粒径(NM) Sio2含量(%) PH值 比重 密度(g/ml) 稀释比例 80纳米 80 40 10.2 1.30 1. 15±0.05
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